XPS (주사형 광전자 분광 분석장치)
| 상태 | 사용가능 |
|---|---|
| 위치 | 9호관 213호 |
| 제조사 | ULVAC-PHI 5000 VersaProbe, Phi(Φ) |
| 모델명 | PHI 5000 Versa Probe Ⅱ |
| 담당자 | 나용운, 김인애 |
용도
기기사양
▶Specification
1. Charge Neutralization System
1) Methode : Dual beam charge neutralization or equivalent methode
2) Analysis for insulating samples
2. Minimum X-ray beam size : 10㎛
3. XPS Energy Resolution : 0.50eV FWHM for Ag 3d 5/2 peak
4. XPS Elemental Sensitivity vs Resolution on Ag Sample
5. Max Current of Ar Sputter Gun :≥ 5.0 ㎂at 5㎸
| 일 | 월 | 화 | 수 | 목 | 금 | 토 |
1 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 2 | 3 | 4 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 5 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 6 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 7 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 8 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 9 | 10 | 11 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 12 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 13 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 14 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 15 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 16 | 17 | 18 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 19 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 20 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 21 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 22 09:30마감 10:00마감 11:00마감 12:00마감 13:00마감 14:00마감 15:00마감 16:00마감 17:00마감 18:00마감 19:00마감 20:00마감 | 23 | 24 | 25 09:30완료 10:00완료 11:00완료 13:00예약가능 14:00완료 15:00완료 16:00완료 17:00완료 18:00예약불가 19:00예약불가 20:00예약불가 | 26 09:30완료 10:00완료 11:00완료 13:00완료 14:00완료 15:00완료 16:00완료 17:00완료 18:00예약불가 19:00예약불가 20:00예약불가 | 27 09:30완료 10:00완료 11:00완료 13:00완료 14:00완료 15:00완료 16:00완료 17:00완료 18:00예약불가 19:00예약불가 20:00예약불가 | 28 09:30완료 10:00완료 11:00완료 13:00완료 14:00완료 15:00완료 16:00예약가능 17:00예약가능 18:00예약불가 19:00예약불가 20:00예약불가 | 29 09:30완료 10:00완료 11:00완료 13:00예약가능 14:00예약가능 15:00예약가능 16:00예약가능 17:00예약가능 18:00예약불가 19:00예약불가 20:00예약불가 | 30 | 31 |
기본 55,000원/시간
Depth Profile 55,000원/시간
UPS 55,000원/시간
-Ar sputtering: 11,000원/회(3min)
< 외부 업체 및 외부 대학 사용자>
기본 88,000원/시료
Depth Profile 132,000원/시간
UPS 154,000원/시간
-Ar sputtering: 22,000원/회(3min)
* 프로그램만 사용 시 기본료의 50% 가격 적용
* 부가세(10%) 포함 가격입니다.
| 순번 | 제목 | 날짜 | 조회수 |
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